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适用专业：电子科学与技术
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资料简介：
毕业论文-纳米多孔SiO2薄膜光学性能的研究，共32页，15070字
摘 要
光学薄膜是薄膜科学中最早被深入研究的，而增透膜在现代光学薄膜生产中占有十分重要的地位。目前已有很多不同类型的增透膜可供利用，并能满足技术光学领域的绝大部分需要。但大功率激光系统，要求某些元器件要有极低的表面反射，以避免敏感元件受到不必要的反射的破坏，因此，实际的需求促使着增透膜不断向更高水平发展。
多孔二氧化硅（SiO2）薄膜由于其特殊的化学成分及结构因素而具有许多优异的性能，如较低的介电常数、折射率和热导率，较高的机械强度和热稳定性，以及与基片间良好的结合力等。因此，多孔 SiO2薄膜是一种具有广阔应用前景的半导体器件低介电材料、红外探测器的隔热材料以及光学器件中的减反射膜材料。溶胶-凝胶法是一种制备多孔 SiO2薄膜的简便有效的方法，然而由于该工艺的固有缺陷，通常难以制得具有较高孔隙率且均匀完整的膜层。本论文以 TEOS（正硅酸乙酯）、乙醇和水等为原料，通过溶胶－凝胶法浸渍提拉涂膜工艺制备 SiO2增透膜。优化溶胶-凝胶工艺构建多孔 SiO2厚膜，并对膜的光学性能进行分析研究。
关键词： SiO2 , 增透膜 , 溶胶-凝胶
目 录
第一章 绪论 2
1.1引言 2
1.2光学薄膜制备工艺的发展概况 3
1.3增透膜研究意义 3
1.4薄膜增透原理 4
1.5增透薄膜的应用 5
1.6常用薄膜的制备方法 6
1.6.1等离子体增强化学气相沉积法 6
1.6.2磁控溅射法 8
1.6.3溶胶-凝胶法 9
1.7检测方法 11
1.7.1扫描电子显微镜（SEM） 11
1.7.2X射线衍射仪 12
1.7.3分光光度计 13
第二章 自制提拉机 14
2.1提拉机原理 14
2.2提拉镀膜的过程 14
2.3影响膜层厚度的因素 15
2.4自制提拉机存在的问题 15
第三章 二氧化硅薄膜的制备 17
3.1 SiO2溶胶的制备药品 17
3.2试验设备 17
3.3实验方案和研究方法 18
3.4实验过程 18
第四章 SiO2薄膜光学性能分析 1
4.1溶剂及工艺方法的讨论 1
4.2不同SIO2工艺的表面形貌 1
4.3 SIO2薄膜的X射线衍射XRD分析 2
4.4SIO2薄膜的透光率分析 4
第五章 结论 7
致 谢 8
参考文献 1
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